Technologie der Ionenstrahllithografie für photonische Chips

Das Bild zeigt den Prozess der Ionenstrahllithografie, der von chinesischen Physikern zur beschleunigten Herstellung photonischer Chips verwendet wird. Helle Lichtstrahlen und komplexe Mikrostrukturen auf der Kristalloberfläche demonstrieren die hohe Präzision und Effizienz der Technologie.