Durchbruch von TSMC: atomare Grenzschicht in 2D-Transistoren

Schema eines 2D-Transistors mit epitaktischer Grenzschicht HfO2/Al2O3/MoS2 zur Vermeidung von Degradation

Detaillierte Schema eines 2D-Transistors mit einer Monoschicht aus MoS2 und kristallinem Al2O3, die einen innovativen Ansatz zur Verbesserung der Transkonduktanz und Vermeidung von Geräte-Degradation zeigt.

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