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title: "Intel-Chef: China ist bei der Produktion fortschrittlicher Chips gar nicht mehr so weit hinter den USA"
description: "Intel-CEO Lip-Bu Tan erklärte gegenüber Nikkei Asia, dass China den Rückstand zu den USA bei fortschrittlichen Chips verringert hat. Das chinesische Unternehmen Landau präsentierte einen 15W-EUV-Quellen-Prototyp."
date: 2026-10-20T01:41:31.598Z
lang: de
url: https://xab.info/de/posts/intel-chef-china-nicht-so-weit-hinter-usa-bei-chips
tags: [intel, china-chips, euv-lithography, semiconductors, lip-bu-tan, tsmc, us-sanctions]
author: "Alexander Buran"
publisher: "XAB.info"
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# Intel-Chef: China ist bei der Produktion fortschrittlicher Chips gar nicht mehr so weit hinter den USA

![Intel-CEO Lip-Bu Tan spricht bei einer Präsentation vor einem blauen Marken-Hintergrund](https://xab.info/media/2026/10/20/glava-intel-kitay-ne-tak-daleko-ot-ssha-v-proizvodstve-chipov/glava-intel-kitay-ne-tak-daleko-ot-ssha-v-proizvodstve-chipov-1.webp)

## Kernpunkte

- Lip-Bu Tan erklärte in einem Nikkei-Asia-Interview, China sei bei der Chip-Produktion „gar nicht so weit dahinter“
- Das chinesische Unternehmen Landau stellte einen EUV-Quellen-Prototyp vor: bis zu 100 Betriebsstunden bei 15 W
- ASML-Industrieanlagen arbeiten mit 150–250 W und übertreffen damit den chinesischen Prototyp deutlich
- Tan bestätigte Intels Pläne zum Ausbau der Auftragsfertigung im Wettbewerb mit TSMC

Intel-CEO Lip-Bu Tan hat in einem Interview mit der japanischen Zeitung Nikkei Asia die Ansicht geäußert, dass China bei der Halbleiterfertigung gar nicht mehr so weit hinter den USA zurückliegt wie bisher angenommen. Die Äußerung fiel vor dem Hintergrund der anhaltenden US-Sanktionen, die den Zugang chinesischer Unternehmen zu fortschrittlichen EUV-Lithografiesystemen einschränken – einer Schlüsseltechnologie für die Chipfertigung im 7-Nanometer-Bereich und darunter. Auf die direkte Frage, ob China die USA in den nächsten fünf bis zehn Jahren einholen könne, antwortete Tan lakonisch: „Heute ist es, denke ich, gar nicht so weit dahinter.“

### Sanktionskontext und Einschätzung der Lücke

Die Aussage des Intel-Chefs erhält besonderes Gewicht, da Washington seit mehreren Jahren konsequent die Exportbeschränkungen für Lieferungen von Lithografieausrüstung an chinesische Hersteller verschärft, einschließlich Extrem-Ultraviolett-Systemen (EUV) des niederländischen Unternehmens ASML. Dennoch betonte Tan, dass Unternehmen aus verschiedenen Ländern ihre eigenen Stärken und Schwächen haben und der letztendliche Erfolg davon abhängt, wie gut ihre Produkte den tatsächlichen Kundenbedürfnissen entsprechen. Daher vermied er eine eindeutige Prognose zum Zeitplan eines Aufholszenarios, spielte aber gleichzeitig das aktuelle Niveau der chinesischen Entwicklungen nicht herunter.

### Fortschritte bei chinesischen EUV-Entwicklungen

Vor dem Hintergrund von Tans Worten lenkte die Ankündigung eines chinesischen Unternehmens namens Landau die Aufmerksamkeit auf sich, das einen Prototyp einer Extrem-Ultraviolett-Strahlungsquelle für die EUV-Lithografie vorstellte. Nach Angaben des Entwicklers kann das Gerät bis zu 100 Stunden lang ununterbrochen bei einer Ausgangsleistung von 15 W arbeiten. Zum visuellen Vergleich: Frühe industrielle ASML-Anlagen aus den frühen 2020er Jahren nutzten Quellen mit einer Leistung von rund 150 W, und nachfolgende Generationen erhöhten diesen Wert auf 250 W. Die Leistungslücke bleibt erheblich, doch allein die Demonstration eines funktionierenden Prototyps mit längerer Betriebsdauer wird als Indikator für angesammeltes Ingenieurwissen gewertet.

### Technische Herausforderungen, die sich nicht auf Watt reduzieren

Es ist wichtig zu verstehen, dass bei EUV-Systemen die Quellenleistung nur ein Parameter ist. Die Technologie erfordert, dass Laser im Sekundentakt auf geschmolzene Zinntropfen treffen, um stabile Strahlung mit der gewünschten Wellenlänge zu erzeugen. Ein langfristiger Betrieb ohne Degradation optischer Elemente und die Aufrechterhaltung der erforderlichen Intensität bleibt eine der komplexesten ingenieurtechnischen Aufgaben in der Mikroelektronik. Aus diesem Grund erfordert selbst bei einem Prototyp mit einer angegebenen Laufzeit von 100 Stunden die kommerzielle Einführung der chinesischen Lösung in der Regel eine erhebliche Phase der Verfeinerung und Skalierung.

### Intel-Pläne und Konkurrenz zu TSMC

Im selben Interview ging Tan auch auf die interne Agenda von Intel ein. Der CEO bestätigte, dass das Unternehmen sein eigenes Auftragsfertigungsgeschäft (Foundry) ausbauen will, um mit dem taiwanesischen Unternehmen TSMC – dem weltweiten Marktführer in der Auftragsfertigung von Chips – zu konkurrieren. Gleichzeitig betonte er, dass die Umsetzung dieser Strategie Zeit und konsequente Arbeit erfordert und keine einmalige Investition ist. Zuvor hatte Tan im selben Interviewzyklus mit Nikkei berichtet, dass die nach seiner Ernennung im März 2025 eingeleitete Restrukturierung von Intel bereits zu etwa 80 % abgeschlossen sei, einschließlich des Wechsels der meisten Top-Manager.

### Was das für den Markt bedeutet

Die Kombination aus Tans Aussagen und den Daten zu chinesischen Entwicklungen deutet darauf hin, dass sich die technologische Lücke zwischen den USA und China bei fortschrittlichen Chips wahrscheinlich schneller schließt, als westliche Analysten noch vor ein paar Jahren angenommen hatten. Gleichzeitig behauptet keine der Quellen, dass China bereits Parität erreicht hat: Es geht um die Verkleinerung des Rückstands und das Aufkommen eigener, wenn auch derzeit noch weniger leistungsstarker Lösungen chinesischer Unternehmen bei für die EUV-Lithografie kritischen Komponenten. Für den globalen Halbleitermarkt bedeutet dies, dass die US-Sanktionspolitik nicht nur die aktuelle Lücke, sondern auch das Tempo ihres Schließens berücksichtigen muss.

## Faktencheck und Quellen

- [Глава Intel заявил, что Китай не так сильно отстаёт в производстве передовых чипов](https://www.goha.ru/glava-intel-zayavil-chto-kitaj-ne-tak-silno-otstayot-v-proizvodstve-peredovyh-chipov-x1DKm2) - Primärquelle: Volltext des Tan-Interviews mit Nikkei Asia, Daten zum Landau-Prototyp (15 W, 100 Std.), Vergleich mit ASML (150/250 W), Intel-Foundry-Pläne.
- [Глава Intel заявил, что Китай не так уж сильно отстаёт от США в производстве чипов](https://vgtimes.ru/tech-and-hardware/171614-glava-intel-zayavil-chto-kitay-ne-tak-uzh-silno-otstaet-ot-ssha-v-proizvodstve-chipov.html) - Bestätigt Kernpunkte: Tans Einschätzung, Sanktionen, Landau-Prototyp, Intel-Pläne.
- [Глава Intel: Китай не так сильно отстает от США в производстве чипов](https://hi-tech.mail.ru/news/158384-glava-intel-kitai-ne-tak-silno-otstaet-ot-ssha/) - Bestätigt die Interviewquelle (Nikkei Asia) und Tans Haupteinschätzung.
- [Конец близок: глава Intel заявил, что перестройка компании завершена на 80 %](https://3dnews.ru/1150082/konets-blizok-glava-intel-zayavil-chto-perestroyka-kompanii-zavershena-na-80-) - Zusätzlicher Kontext: Tans Ernennung im März 2025, 80 % Restrukturierungsfortschritt, Wechsel im Management.

## Häufige Fragen

### Was genau hat Lip-Bu Tan über China gesagt?

Auf die Frage, ob China die USA bei der Chip-Produktion in 5–10 Jahren einholen wird, sagte Tan: „Heute ist es, denke ich, gar nicht so weit dahinter.“ Er wies zudem darauf hin, dass Unternehmen in verschiedenen Ländern unterschiedliche Stärken und Schwächen haben und der Erfolg von kundenorientierten Produkten abhängt.

### Welche Eigenschaften hat der EUV-Quellen-Prototyp von Landau?

Den Angaben zufolge kann der Prototyp bis zu 100 Stunden lang bei einer Leistung von 15 W arbeiten. Zum Vergleich: Frühe industrielle ASML-Systeme nutzten 150-Watt-Quellen, Nachfolgegenerationen bis zu 250 Watt.

### Plant Intel, mit TSMC zu konkurrieren?

Ja. Tan bestätigte, dass Intel seine eigene Auftragsfertigung (Foundry) ausbauen will, um mit TSMC zu konkurrieren. Er betonte jedoch, dass diese Strategie Zeit und konsequente Arbeit erfordert.

### Was ist EUV-Lithografie und warum ist sie wichtig?

EUV (Extreme Ultraviolett) ist eine Lithografietechnologie zur Herstellung von Chips ab 7 nm und darunter. Sie erzeugt Strahlung durch den Beschuss von Zinntropfen im Sekundentakt. Der Zugang zu EUV-Geräten ist für China durch US-Sanktionen eingeschränkt.