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Schema eines 2D-Transistors mit epitaktischer Grenzschicht HfO2/Al2O3/MoS2 zur Vermeidung von Degradation

Durchbruch von TSMC und taiwanesischen Wissenschaftlern: Wie eine atomare Grenzfläche 2D-Transistoren vor Degradation rettet

Technologie 09.08.2026, 20:50
🚀 TSMC und taiwanesische Wissenschaftler haben einen Durchbruch in der 2D-Elektronik erzielt! Eine neue Methode zur Herstellung von Transistoren auf Basis von Molybdändisulfid (MoS₂) wurde entwickelt. 🔬 Kern des Problems: Herkömmliche Isolatoren lassen sich schlecht auf 2D-Materialien aufbringen und verringern deren Leistungsfähigkeit. 💡 Lösung: Schaffung eines atomaren Puffers aus Aluminiumoxid zwischen MoS₂ und dem Dielektrikum HfO₂. 📉 Ergebnis: Die Dicke des Dielektrikums wurde auf 1 nm reduziert, ohne die Elektronenbeweglichkeit zu beeinträchtigen. Dies eröffnet den Weg zu Chips, die deutlich effizienter sind als Silizium-Äquivalente. #TSMC #MoS2 #Halbleiter #TechNews #2DTransistoren
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TSMC-Fabrik mit rotem Logo an der Fassade, wo fortschrittliche 2D-Transistoren auf MoS₂-Basis in Zusammenarbeit mit NYCU entwickelt werden

TSMC und NYCU erzielen Durchbruch in der Mikroelektronik: Neue 2D-Transistortechnologie auf MoS₂-Basis

Technologie 09.08.2026, 18:31
🚀 TSMC und NYCU haben eine bahnbrechende Technologie für Chips der nächsten Generation vorgestellt. Ingenieure haben eine Methode zur Herstellung von 2D-Transistoren auf Basis von Molybdändisulfid (MoS₂) entwickelt, die das Problem der Stromsteuerung auf Nanometer-Ebene löst. Die Schlüsselinnovation ist die Verwendung einer ultradünnen Aluminiumoxidschicht (0,42 nm) für eine perfekte Beschichtung. Dies könnte in den kommenden Jahren die Basis für Prozessoren mit rekordverdächtiger Dichte und Energieeffizienz bilden. #TSMC #Halbleiter #MoS2 #TechNews
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