Технология ионно-лучевой литографии для фотонных чипов

Ионно-лучевая литография для создания фотонных чипов: китайские физики ускоряют производство в сотни раз

На изображении показан процесс ионно-лучевой литографии, используемый китайскими физиками для ускоренного создания фотонных чипов. Яркие лучи света и сложные микроструктуры на поверхности кристалла демонстрируют высокую точность и эффективность технологии.

← Назад к статье