--- title: "Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, на 90% состоящих из отечественных компонентов" description: "SMEE представила на CIIE установки SSC800 и SSB800 с более чем 90% китайских компонентов. По данным TrendForce, оборудование уже обработало свыше 10 млн пластин и эксплуатируется на крупных чипмейкерах КНР." date: 2026-11-09T21:48:29.748Z lang: ru url: https://xab.info/posts/smee-massovyi-vipusk-litografov-kitay tags: [smee, semiconductor-lithography, china-chips, duv-lithography, asml] author: "Александр Буран" publisher: "XAB.info" --- # Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, на 90% состоящих из отечественных компонентов ![Новая китайская литографическая установка SMEE белого цвета с оранжевыми элементами на светлом фоне](https://xab.info/media/2026/11/09/smee-massovyi-vipusk-litografov-kitay/smee-massovyi-vipusk-litografov-kitay-1.webp) ## Ключевые тезисы - SMEE показала на CIIE установки SSC800 (KrF/DUV, от 110 нм) и SSB800 (I-line, от 280 нм) с более чем 90% компонентов местного производства - По данным TrendForce, оборудование освоило массовый выпуск и суммарно обработало свыше 10 млн кремниевых пластин - Установки эксплуатируются на крупных китайских производителях логических чипов и памяти, доступность превышает 92% - SMEE — единственный серийный производитель сухой проекционной литографии в КНР и фигурирует в списке экспортных ограничений США с декабря 2022 года На международной выставке CIIE в Шанхае, проходившей с 5 по 10 ноября, китайская компания SMEE представила две новые установки для выпуска полупроводников — SSC800 и SSB800. Ключевой акцент на презентации был сделан на уровне локализации: по оценкам отраслевых источников, более 90% компонентов оборудования производится внутри Китая. По данным аналитического агентства TrendForce, обе установки уже вышли на стадию массового выпуска и суммарно обработали свыше 10 млн кремниевых пластин, что свидетельствует о переходе от пилотных образцов к серийной эксплуатации. ### Две технологии литографии под одной крышей Установки различаются по применяемой технологии фотолитографии и целевым техпроцессам. Модель SSC800 работает в диапазоне KrF — это технология глубокой ультрафиолетовой фотолитографии (DUV), рассчитанная на производство микросхем по нормам от 110 нм. В её задачи входит выпуск компонентов для систем искусственного интеллекта, высокопроизводительных вычислений, а также чипов памяти. Модель SSB800 оперирует технологией I-line в ультрафиолетовом диапазоне спектра и ориентирована на более крупные нормы от 280 нм, которые применяются при изготовлении силовых и аналоговых полупроводников, а также MEMS-устройств. Таким образом, линейка закрывает два существенно разных сегмента рынка — от относительно передовых логических и memory-чипов до зрелых промышленных норм. ### Локализация оптики и масштаб обработки Обе установки оснащены разработанной в Китае проекционной оптикой и двухпозиционной системой обработки пластин, что позволяет сокращать время цикла за счёт параллельных операций. По заявлению TrendForce со ссылкой на отраслевые источники, точность совмещения слоёв и производительность оборудования приближаются к показателям зарубежных аналогов соответствующего класса. Совокупный объём обработанных пластин, превышающий 10 млн штук, аналитики трактуют как подтверждение того, что оборудование прошло стадию освоения и перешло к устойчивому серийному производству. ### Эксплуатация на крупных чипмейкерах КНР Установки SSC800 и SSB800 уже эксплуатируются на крупных китайских предприятиях, выпускающих логические микросхемы и память. По имеющимся данным, доступность оборудования превышает 92%, что для промышленной литографической техники является показателем зрелого, а не экспериментального состояния. Это означает, что машины интегрированы в реальные производственные линии и участвуют в выпуске коммерческой продукции, а не только в демонстрационных или пилотных циклах. ### Контекст: экспортные ограничения и иммерсионная DUV SMEE работает с 2002 года и остаётся единственным китайским производителем, способным стабильно поставлять серийные установки сухой проекционной литографии. Компания находится в американском списке экспортных ограничений с декабря 2022 года, что делает задачу импортозамещения критически важной для отрасли. Параллельно Китай развивает направление иммерсионной DUV-литографии: по сообщениям, одна из государственных компаний уже приступила к массовому производству соответствующих установок, хотя по совокупным характеристикам они пока значительно уступают оборудованию ASML. Новые SSC800 и SSB800 в этой логике занимают позицию зрелых серийных машин, обеспечивающих независимость КНР в широком диапазоне промышленных и вычислительных чипов. ## Проверка фактов и источники - [Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, которые на 90 % состоят из китайских компонентов](https://3dnews.ru/1151059) - Первоисточник: описание SSC800/SSB800, >90% локальных компонентов, >10 млн пластин по данным TrendForce, доступность >92%, работа с 2002 г., список экспортных ограничений с декабря 2022, выставка CIIE 5–10 ноября. - [Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, которые на 90 % состоят из китайских компонентов](https://3dnews.ru/1151059/kitayskaya-smee-naladila-massoviy-vipusk-litografov-kotorie-na-90-sostoyat-iz-kitayskihkomponentov) - Первоисточник: описание SSC800/SSB800, >90% локальных компонентов, >10 млн пластин по данным TrendForce, доступность >92%, работа с 2002 г., список экспортных ограничений с декабря 2022, выставка CIIE 5–10 ноября. ## Частые вопросы ### Какие технологии литографии используют установки SSC800 и SSB800? SSC800 использует KrF (глубокая ультрафиолетовая фотолитография, DUV) для техпроцессов от 110 нм, включая чипы для ИИ, высокопроизводительных вычислений и памяти. SSB800 работает с I-line (ультрафиолетовый диапазон) для норм от 280 нм — силовых и аналоговых полупроводников, а также MEMS. ### Насколько оборудование локализовано и в каком объёме уже отработало? По данным TrendForce со ссылкой на отраслевые источники, более 90% компонентов произведено в Китае, а суммарно установки обработали свыше 10 млн кремниевых пластин, освоив массовый выпуск. ### Где эксплуатируются эти установки и какова их доступность? Они работают на крупных китайских предприятиях, выпускающих логические микросхемы и память; доступность оборудования превышает 92%. ### Когда и где были показаны новые установки? На выставке CIIE в Шанхае, проходившей с 5 по 10 ноября.