Технологія іонно-променевої літографії для фотонних чіпів

Іонно-променева літографія для створення фотонних чіпів: китайські фізики прискорили виробництво в сотні разів

На зображенні показано процес іонно-променевої літографії, який використовують китайські фізики для прискореного створення фотонних чіпів. Яскраві промені світла та складні мікроструктури на поверхні кристала демонструють високу точність та ефективність технології.

← Назад до статті