---
title: "ASML переглядає глобальну стратегію: як проект Terafab Ілона Маска змінює ринок напівпровідників"
description: "ASML офіційно включила проект Terafab Ілона Маска до своїх планів на 2027–2028 роки, що призведе до зростання виробництва літографічного обладнання на 30%. 🏭🇳🇱 Інвестиції в техаський завод можуть сягнути $119 млрд, створюючи ризики дефіциту для всієї світової індустрії через монополію нідерландського вендора. 📉🔬"
date: 2026-07-16T15:14:10.000Z
lang: uk
url: https://xab.info/uk/posts/asml-perehladaie-stratehiyi-terafab-ilona-maska
tags: [asml, elon-musk, terafab, semiconductors, intel]
publisher: "XAB.info"
---

# ASML переглядає глобальну стратегію: як проект Terafab Ілона Маска змінює ринок напівпровідників

![Візуалізація масштабного проекту Terafab Ілона Маска: 100 млн кв. футів виробничих площ для генерації 1 ТВт енергії на рік](https://xab.info/media/2026/07/16/asml-korrektirovat-plany-pod-terafab-ilona-mask/asml-korrektirovat-plany-pod-terafab-ilona-mask-1.webp)

Світова індустрія мікроелектроніки зіткнулася з новим викликом, який кардинально змінює розстановку сил на десятиліття вперед. Нідерландська корпорація ASML, яка є єдиним у світі постачальником передового літографічного обладнання, офіційно коригує свої виробничі плани. Причиною стала інтеграція в стратегічний графік постачань амбітного проекту Terafab, який реалізує Ілон Маск у США.

Фінансовий директор ASML Роджер Дассен підтвердив ці зміни під час звіту про фінансові результати за другий квартал 2026 року. Постачання критично важливого обладнання тепер буде синхронізоване з етапами розгортання техаського мегазаводу. За незалежними оцінками, масштаб інвестицій у цей проект до моменту повного запуску може сягнути $119 млрд.

### Монополія ASML і ризик дефіциту

Підтвердження замовлень від структур Ілона Маска стало сигналом для всієї галузі. ASML утримує фактичну монополію на виробництво сканерів екстремального ультрафіолету (EUV та High-NA EUV). Без цих систем фізично неможливо випускати процесори за техпроцесами менше 5 нм. Традиційно черга на отримання такого обладнання формується на кілька років вперед і розподіляється між гігантами на кшталт TSMC, Samsung та Intel.

Однак поява такого великого гравця, як Terafab, вносить корективи. Згідно з нормами антимонопольного законодавства ЄС та принципами ВТО, технологічний сектор потребує диверсифікації постачань. Монопольне становище ASML створює системний ризик: ринок стає «supply-limited» (обмеженим пропозицією). У періоди різкого зростання інфраструктурних проектів з боку приватних інвесторів це неминуче призводить до дефіциту обладнання для всієї світової індустрії.

### Масштабування потужностей: цифри та факти

У відповідь на нові виклики керівництво ASML оголосило про масштабне збільшення цільових обсягів виробництва. Корпорація планує агресивне розширення потужностей у найближчі два роки:

    - **Системи Low-NA EUV:** Базові потужності, розраховані на випуск близько 65 одиниць у 2026 році, збільшаться на 30% вже у 2027 році. Крім того, розглядається можливість додаткового розширення ще на 30% у 2028 році.

    - **Глибока ультрафіолетова літографія (DUV):** Потужності з випуску іммерсійних систем (поточний рівень — близько 130 одиниць на рік) також зростуть на 30% у 2027 році з потенціалом аналогічного приросту наступного року.

Фінансовий прогноз виручки компанії на цей період становить від €43 млрд до €45 млрд. Рівень бронювання потужностей ASML вже наближається до 100%, при цьому до портфеля довгострокових замовлень вже включено проект Terafab.

### Архітектура Terafab: вертикальна інтеграція

Проект Terafab, який розвиває консорціум Tesla, SpaceX та xAI, базується в Остіні (штат Техас) поруч із Gigafactory Texas. Ключовим індустріальним партнером у створенні фабрики виступила американська корпорація Intel. Головна мета проекту — усунути фундаментальну вразливість сучасної ІТ-галузі: географічну роздробленість етапів виробництва мікросхем.

Концепція Terafab передбачає повну вертикальну інтеграцію всіх циклів під одним дахом:

    - **Проектування та маскування:** Розробка архітектури обчислювальних кристалів для ШІ та створення фотомасок.

    - **Літографічне лиття (Fabrication):** Пряме виробництво логічних інтегральних схем на кремнієвих пластинах із використанням обладнання ASML.

    - **Випуск пам'яті:** Виробництво власних модулів високошвидкісної пам'яті (HBM), критично важливої для ШІ-обчислень.

    - **Фінальна збірка:** Інтеграція чіпів та пам'яті в єдині матриці та стрес-тестування.

Кінцевою метою функціонування комплексу заявлено випуск понад 1 тераватта сумарної обчислювальної потужності на рік. Цей ресурс буде спрямовано на оснащення автономних систем Tesla, роботизованих платформ, а також створення орбітальних дата-центрів та суперкомп'ютерів для SpaceX та xAI.