--- title: "Китайська SMEE налагодила масовий випуск літографів, які на 90% складаються з вітчизняних компонентів" description: "SMEE представила на CIIE установки SSC800 та SSB800 з більш ніж 90% китайських компонентів. За даними TrendForce, обладнання вже обробило понад 10 млн пластин і експлуатується на великих чіпмейкерах КНР." date: 2026-11-09T21:48:29.748Z lang: uk url: https://xab.info/uk/posts/smee-masoviy-vipusk-litogra-iv-kitay tags: [smee, semiconductor-lithography, china-chips, duv-lithography, asml] author: "Олександр Буран" publisher: "XAB.info" --- # Китайська SMEE налагодила масовий випуск літографів, які на 90% складаються з вітчизняних компонентів ![Нова китайська літографічна установка SMEE білого кольору з помаранчевими елементами на світлому тлі](https://xab.info/media/2026/11/09/smee-massovyi-vipusk-litografov-kitay/smee-massovyi-vipusk-litografov-kitay-1.webp) ## Ключові тези - SMEE показала на CIIE установки SSC800 (KrF/DUV, від 110 нм) та SSB800 (I-line, від 280 нм) з більш ніж 90% компонентів місцевого виробництва - За даними TrendForce, обладнання освоїло масовий випуск і сумарно обробило понад 10 млн кремнієвих пластин - Установки експлуатуються на великих китайських виробниках логічних чіпів і пам'яті, доступність перевищує 92% - SMEE — єдиний серійний виробник сухої проєкційної літографії в КНР і фігурує в списку експортних обмежень США з грудня 2022 року На міжнародній виставці CIIE у Шанхаї, що проходила з 5 по 10 листопада, китайська компанія SMEE представила дві нові установки для випуску напівпровідників — SSC800 та SSB800. Ключовий акцент на презентації було зроблено на рівні локалізації: за оцінками галузевих джерел, понад 90% компонентів обладнання виробляється всередині Китаю. За даними аналітичного агентства TrendForce, обидві установки вже вийшли на стадію масового випуску та сумарно обробили понад 10 млн кремнієвих пластин, що свідчить про перехід від пілотних зразків до серійної експлуатації. ### Дві технології літографії під одним дахом Установки відрізняються за застосовуваною технологією фотолітографії та цільовими техпроцесами. Модель SSC800 працює в діапазоні KrF — це технологія глибокої ультрафіолетової фотолітографії (DUV), розрахована на виробництво мікросхем за нормами від 110 нм. До її завдань входить випуск компонентів для систем штучного інтелекту, високопродуктивних обчислень, а також чіпів пам'яті. Модель SSB800 оперує технологією I-line в ультрафіолетовому діапазоні спектру та орієнтована на більші норми від 280 нм, які застосовуються при виготовленні силових і аналогових напівпровідників, а також MEMS-пристроїв. Таким чином, лінійка закриває два суттєво різні сегменти ринку — від відносно передових логічних і memory-чіпів до зрілих промислових норм. ### Локалізація оптики та масштаб обробки Обидві установки оснащені розробленою в Китаї проєкційною оптикою та двопозиційною системою обробки пластин, що дозволяє скорочувати час циклу завдяки паралельним операціям. За заявою TrendForce з посиланням на галузеві джерела, точність суміщення шарів та продуктивність обладнання наближаються до показників закордонних аналогів відповідного класу. Сукупний обсяг оброблених пластин, що перевищує 10 млн штук, аналітики трактують як підтвердження того, що обладнання пройшло стадію освоєння та перейшло до сталого серійного виробництва. ### Експлуатація на великих чіпмейкерах КНР Установки SSC800 та SSB800 вже експлуатуються на великих китайських підприємствах, що випускають логічні мікросхеми та пам'ять. За наявними даними, доступність обладнання перевищує 92%, що для промислової літографічної техніки є показником зрілого, а не експериментального стану. Це означає, що машини інтегровані в реальні виробничі лінії та беруть участь у випуску комерційної продукції, а не лише в демонстраційних чи пілотних циклах. ### Контекст: експортні обмеження та імерсійна DUV SMEE працює з 2002 року і залишається єдиним китайським виробником, здатним стабільно постачати серійні установки сухої проєкційної літографії. Компанія перебуває в американському списку експортних обмежень із грудня 2022 року, що робить завдання імпортозаміщення критично важливим для галузі. Паралельно Китай розвиває напрямок імерсійної DUV-літографії: за повідомленнями, одна з державних компаній уже розпочала масове виробництво відповідних установок, хоча за сукупними характеристиками вони поки що значно поступаються обладнанню ASML. Нові SSC800 та SSB800 у цій логіці займають позицію зрілих серійних машин, що забезпечують незалежність КНР у широкому діапазоні промислових і обчислювальних чіпів. ## Перевірка фактів і джерела - [Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, которые на 90 % состоят из китайских компонентов](https://3dnews.ru/1151059) - Першоджерело: опис SSC800/SSB800, >90% локальних компонентів, >10 млн пластин за даними TrendForce, доступність >92%, робота з 2002 р., список експортних обмежень із грудня 2022, виставка CIIE 5–10 листопада. - [Китайская SMEE наладила массовый выпуск литографов, которые на 90 % состоят из китайских компонентов](https://3dnews.ru/1151059/kitayskaya-smee-naladila-massoviy-vipusk-litografov-kotorie-na-90-sostoyat-iz-kitayskihkomponentov) - Дублююче посилання на той самий матеріал; короткий зміст збігається з першоджерелом. ## Часті запитання ### Які технології літографії використовують установки SSC800 та SSB800? SSC800 використовує KrF (глибока ультрафіолетова фотолітографія, DUV) для техпроцесів від 110 нм, включаючи чіпи для ШІ, високопродуктивних обчислень і пам'яті. SSB800 працює з I-line (ультрафіолетовий діапазон) для норм від 280 нм — силових і аналогових напівпровідників, а також MEMS. ### Наскільки обладнання локалізовано і в якому обсязі вже відпрацювало? За даними TrendForce з посиланням на галузеві джерела, понад 90% компонентів вироблено в Китаї, а сумарно установки обробили понад 10 млн кремнієвих пластин, освоївши масовий випуск. ### Де експлуатуються ці установки та яка їхня доступність? Вони працюють на великих китайських підприємствах, що випускають логічні мікросхеми та пам'ять; доступність обладнання перевищує 92%. ### Коли і де було показано нові установки? На виставці CIIE у Шанхаї, що проходила з 5 по 10 листопада.