Chinas EUV-Strahlungsquelle: technologischer Durchbruch mit Unterstützung eines ehemaligen ASML-Ingenieurs

EUV-Lithografieanlage mit violetter Strahlung, die Chinas Durchbruch bei der Entwicklung einer eigenen Strahlungsquelle mit Hilfe eines ehemaligen ASML-Ingenieurs symbolisiert

Das Bild zeigt eine hochpräzise EUV-Lithografieanlage, die charakteristische violette Strahlung auf einen Siliziumwafer richtet. Dies visualisiert den Kernbestandteil Chinas Durchbruchs – eine eigenständig entwickelte Strahlungsquelle, die unter Beteiligung eines ehemaligen ASML-Ingenieurs entstand und einen strategischen Fortschritt unter technologischen Restriktionen darstellt.

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