Chinesischer Durchbruch in der EUV-Lithografie: Wie ein ehemaliger ASML-Ingenieur Peking bei der Entwicklung einer eigenen Strahlungsquelle half
🇨🇳 China hat eine eigene EUV-Strahlungsquelle für die Lithografie entwickelt! 🚀 Ein ehemaliger ASML-Ingenieur, Lin Nian, half bei der Entwicklung. Der Wirkungsgrad von 3,42 % ist für die Massenproduktion noch zu gering, aber ein Schritt nach vorne! ⚡️ Die Sanktionen des Westens haben Peking nicht aufgehalten. #China #EUV #ASML #Chips #Technologie
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