Китайский EUV-источник излучения: технологический прорыв с участием экс-инженера ASML

На изображении показана высокоточная EUV-литографическая система с характерным фиолетовым излучением, направленным на кремниевую пластину. Это визуализация ключевого элемента китайской разработки — собственного источника излучения, созданного при участии бывшего инженера ASML, что стало стратегическим прорывом в условиях технологических ограничений.