Китайский прорыв в EUV-литографии: как бывший инженер ASML помог Пекину создать собственный источник излучения
🇨🇳 Китай создал собственный источник EUV-излучения для литографии! 🚀 Помог бывший инженер ASML Линь Нань. Эффективность 3,42% — пока мало для массового производства, но шаг вперёд! ⚡️ Санкции Запада не остановили Пекин. #Китай #EUV #ASML #Чипы #Технологии
Читать далее →