Китайський прорив у сфері EUV-літографії: як колишній інженер ASML допоміг Пекіну створити власне джерело випромінювання
🇨🇳 Китай створив власне джерело EUV-випромінювання для літографії! 🚀 Допоміг колишній інженер ASML Лінь Нань. Ефективність 3,42% — поки мало для масового виробництва, але крок вперед! ⚡️ Санкції Заходу не зупинили Пекін. #Китай #EUV #ASML #Чіпи #Технології
Читати далі →