На международной выставке CIIE в Шанхае, проходившей с 5 по 10 ноября, китайская компания SMEE представила две новые установки для выпуска полупроводников — SSC800 и SSB800. Ключевой акцент на презентации был сделан на уровне локализации: по оценкам отраслевых источников, более 90% компонентов оборудования производится внутри Китая. По данным аналитического агентства TrendForce, обе установки уже вышли на стадию массового выпуска и суммарно обработали свыше 10 млн кремниевых пластин, что свидетельствует о переходе от пилотных образцов к серийной эксплуатации.

Две технологии литографии под одной крышей

Установки различаются по применяемой технологии фотолитографии и целевым техпроцессам. Модель SSC800 работает в диапазоне KrF — это технология глубокой ультрафиолетовой фотолитографии (DUV), рассчитанная на производство микросхем по нормам от 110 нм. В её задачи входит выпуск компонентов для систем искусственного интеллекта, высокопроизводительных вычислений, а также чипов памяти. Модель SSB800 оперирует технологией I-line в ультрафиолетовом диапазоне спектра и ориентирована на более крупные нормы от 280 нм, которые применяются при изготовлении силовых и аналоговых полупроводников, а также MEMS-устройств. Таким образом, линейка закрывает два существенно разных сегмента рынка — от относительно передовых логических и memory-чипов до зрелых промышленных норм.

Локализация оптики и масштаб обработки

Обе установки оснащены разработанной в Китае проекционной оптикой и двухпозиционной системой обработки пластин, что позволяет сокращать время цикла за счёт параллельных операций. По заявлению TrendForce со ссылкой на отраслевые источники, точность совмещения слоёв и производительность оборудования приближаются к показателям зарубежных аналогов соответствующего класса. Совокупный объём обработанных пластин, превышающий 10 млн штук, аналитики трактуют как подтверждение того, что оборудование прошло стадию освоения и перешло к устойчивому серийному производству.

Эксплуатация на крупных чипмейкерах КНР

Установки SSC800 и SSB800 уже эксплуатируются на крупных китайских предприятиях, выпускающих логические микросхемы и память. По имеющимся данным, доступность оборудования превышает 92%, что для промышленной литографической техники является показателем зрелого, а не экспериментального состояния. Это означает, что машины интегрированы в реальные производственные линии и участвуют в выпуске коммерческой продукции, а не только в демонстрационных или пилотных циклах.

Контекст: экспортные ограничения и иммерсионная DUV

SMEE работает с 2002 года и остаётся единственным китайским производителем, способным стабильно поставлять серийные установки сухой проекционной литографии. Компания находится в американском списке экспортных ограничений с декабря 2022 года, что делает задачу импортозамещения критически важной для отрасли. Параллельно Китай развивает направление иммерсионной DUV-литографии: по сообщениям, одна из государственных компаний уже приступила к массовому производству соответствующих установок, хотя по совокупным характеристикам они пока значительно уступают оборудованию ASML. Новые SSC800 и SSB800 в этой логике занимают позицию зрелых серийных машин, обеспечивающих независимость КНР в широком диапазоне промышленных и вычислительных чипов.