#Euv Lithography

Китайская Langdao Silex представила прототип EUV-источника FlintNano LPP-OXXO с выходной мощностью свыше 15 Вт. До серийного производства компании потребуется 3–5 лет инженерной доработки.

🇨🇳 Китай создал собственный источник EUV-излучения для литографии! 🚀 Помог бывший инженер ASML Линь Нань. Эффективность 3,42% — пока мало для массового производства, но шаг вперёд! ⚡️ Санкции Запада не остановили Пекин. #Китай #EUV #ASML #Чипы #Технологии