#Euv Lithography

Китайська Langdao Silex представила прототип EUV-джерела FlintNano LPP-OXXO з вихідною потужністю понад 15 Вт. До серійного виробництва компанії знадобиться 3–5 років інженерного доопрацювання.

🇨🇳 Китай створив власне джерело EUV-випромінювання для літографії! 🚀 Допоміг колишній інженер ASML Лінь Нань. Ефективність 3,42% — поки мало для масового виробництва, але крок вперед! ⚡️ Санкції Заходу не зупинили Пекін. #Китай #EUV #ASML #Чіпи #Технології