#Euv Lithography

Новини за тегом #Euv Lithography

Генеральний директор Intel Ліп-Бу Тан виступає на презентації на тлі синього брендованого екрана

Голова Intel: Китай у виробництві передових чипів вже не так далеко від США

Технології 20.10.2026, 04:41
Гендиректор Intel Ліп-Бу Тан в інтерв'ю Nikkei Asia заявив, що Китай скоротив відставання від США у виробництві передових чипів. Китайська компанія Landau представила прототип EUV-джерела потужністю 15 Вт.
Читати далі →
Прототип EUV-джерела FlintNano LPP-OXXO від компанії Langdao Silex на виставці

Китай показав прототип EUV-джерела FlintNano: до серійного виробництва — 3–5 років

Технології 17.10.2026, 05:47
Китайська Langdao Silex представила прототип EUV-джерела FlintNano LPP-OXXO з вихідною потужністю понад 15 Вт. До серійного виробництва компанії знадобиться 3–5 років інженерного доопрацювання.
Читати далі →
EUV-літографічна установка з фіолетовим випромінюванням, що символізує китайський прорив у створенні власного джерела випромінювання за участі колишнього інженера ASML

Китайський прорив у сфері EUV-літографії: як колишній інженер ASML допоміг Пекіну створити власне джерело випромінювання

Технології 12.08.2026, 06:49
🇨🇳 Китай створив власне джерело EUV-випромінювання для літографії! 🚀 Допоміг колишній інженер ASML Лінь Нань. Ефективність 3,42% — поки мало для масового виробництва, але крок вперед! ⚡️ Санкції Заходу не зупинили Пекін. #Китай #EUV #ASML #Чіпи #Технології
Читати далі →