На міжнародній виставці CIIE у Шанхаї, що проходила з 5 по 10 листопада, китайська компанія SMEE представила дві нові установки для випуску напівпровідників — SSC800 та SSB800. Ключовий акцент на презентації було зроблено на рівні локалізації: за оцінками галузевих джерел, понад 90% компонентів обладнання виробляється всередині Китаю. За даними аналітичного агентства TrendForce, обидві установки вже вийшли на стадію масового випуску та сумарно обробили понад 10 млн кремнієвих пластин, що свідчить про перехід від пілотних зразків до серійної експлуатації.

Дві технології літографії під одним дахом

Установки відрізняються за застосовуваною технологією фотолітографії та цільовими техпроцесами. Модель SSC800 працює в діапазоні KrF — це технологія глибокої ультрафіолетової фотолітографії (DUV), розрахована на виробництво мікросхем за нормами від 110 нм. До її завдань входить випуск компонентів для систем штучного інтелекту, високопродуктивних обчислень, а також чіпів пам'яті. Модель SSB800 оперує технологією I-line в ультрафіолетовому діапазоні спектру та орієнтована на більші норми від 280 нм, які застосовуються при виготовленні силових і аналогових напівпровідників, а також MEMS-пристроїв. Таким чином, лінійка закриває два суттєво різні сегменти ринку — від відносно передових логічних і memory-чіпів до зрілих промислових норм.

Локалізація оптики та масштаб обробки

Обидві установки оснащені розробленою в Китаї проєкційною оптикою та двопозиційною системою обробки пластин, що дозволяє скорочувати час циклу завдяки паралельним операціям. За заявою TrendForce з посиланням на галузеві джерела, точність суміщення шарів та продуктивність обладнання наближаються до показників закордонних аналогів відповідного класу. Сукупний обсяг оброблених пластин, що перевищує 10 млн штук, аналітики трактують як підтвердження того, що обладнання пройшло стадію освоєння та перейшло до сталого серійного виробництва.

Експлуатація на великих чіпмейкерах КНР

Установки SSC800 та SSB800 вже експлуатуються на великих китайських підприємствах, що випускають логічні мікросхеми та пам'ять. За наявними даними, доступність обладнання перевищує 92%, що для промислової літографічної техніки є показником зрілого, а не експериментального стану. Це означає, що машини інтегровані в реальні виробничі лінії та беруть участь у випуску комерційної продукції, а не лише в демонстраційних чи пілотних циклах.

Контекст: експортні обмеження та імерсійна DUV

SMEE працює з 2002 року і залишається єдиним китайським виробником, здатним стабільно постачати серійні установки сухої проєкційної літографії. Компанія перебуває в американському списку експортних обмежень із грудня 2022 року, що робить завдання імпортозаміщення критично важливим для галузі. Паралельно Китай розвиває напрямок імерсійної DUV-літографії: за повідомленнями, одна з державних компаній уже розпочала масове виробництво відповідних установок, хоча за сукупними характеристиками вони поки що значно поступаються обладнанню ASML. Нові SSC800 та SSB800 у цій логіці займають позицію зрілих серійних машин, що забезпечують незалежність КНР у широкому діапазоні промислових і обчислювальних чіпів.